富臨科技於 04 March 2019 取得 SGS ISO 9001:2015 証書
 
富臨G3.5 Cluster太陽能薄膜系統
富臨科技工程股份有限公司建立國內太陽能光電設備產業技術發展所需之矽薄膜電漿沉積設備,具有大面積、多製程腔連續製程應用之靈活性,且有高水準的薄膜品質以及最低的生產設備成本的最佳競爭優勢。


富臨研發製造G3.5 Cluster太陽能薄膜系統包含:
七大處理腔體 Load/Preheat/Transfer/PECVD*2/PVD*2
PECVD腔體主要功能為成長P, i, n-layer薄膜功能.
PVD腔體主要功能為Ag, AZO濺鍍薄膜功能.
製程控制排程與以及清潔排程流程等系統維護系統.
玻璃傳輸系統負責分配多重製程之連繫傳輸.
預熱熱處理系統負責進行製程前之加熱環境建立功能.

系統能力與表現:
PVD採用pulse DC power
PVD基板與電極距離可調整40~1500 mm
Ag thickness Uniformity ≦5%
多腔體 / Load Lock / 自動傳輸系統
玻璃基板尺寸700 x550 mm
製程腔體背景壓力<1x10-6torr
玻璃基板表面實際溫度>300C(max)
PECVD 採用40.68MHz RF power
PECVD基板可施加bias功能
PECVD基板與電極距離可調整7~30 mm
a-Si thickness Uniformity ≦10%

 
 
         

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